如果沒有周碩的干擾，從0.35微米工藝向0.25微米工藝過渡的光刻機(jī)，真實(shí)歷史上實(shí)際使用的是步進(jìn)重復(fù)投影曝光技術(shù)。
在0.35微米工藝及之前，光刻機(jī)光學(xué)掩膜版的制作要求是非常高的。基本上和生產(chǎn)的芯片，是一對(duì)一全比例設(shè)計(jì)。
掩膜版投射的鏡頭需要與硅片進(jìn)行完全的接觸，接觸中甚至要抽成真空狀態(tài)。然后光源系統(tǒng)的激光打到掩膜版上，投影部分的光刻膠就會(huì)被蒸發(fā)掉。把這樣的晶圓放到蝕...